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アニール炉(真空 加熱) - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

アニール炉の製品一覧

1~3 件を表示 / 全 3 件

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アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置(真空・大気圧ガス置換雰囲気)多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機

◾️Max2000℃ ◾️有効加熱範囲:Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式 ◾️ヒーター制御:1ゾーン、又は2ゾーン ◾️ヒーター材質: ・C/Cコンポジット ・SiCコーティンググ ・TaCコーティング ・タングステン ◾️使用雰囲気: ・真空(10-3Pa台@1800℃(*但し空炉、高真空ポンプ仕様の場合)、大気圧ガス置換(Ar, N2, O2)、APCプロセス圧力制御 ◾️PLCセミオート運転 ・真空/パージサイクル、ベントの自動シーケンス制御 ・タッチパネル操作 ◾️ プロセス圧力制御 ・APCコントロール(MFC流量、又は自動開度調整バルブ(PIDループ制御) ・MFC最大3系統流量自動制御、又はフロートメーター/ニードルバルブの手動調整

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【OEM ODM 受託製作 実績例】アニール炉

アニール炉のOEM、ODM、受託製作実績例

会社設立以来、繊維機械メーカーとして、精練機、連続減量加工機、染色機など、さまざまな装置を開発・製作してきました。 近年は繊維機械で培った、染色・洗浄・乾燥・塗工などのコア技術と、高圧容器・真空容器・撹拌槽などの製造技術を用い、多品種少量生産のモノづくりを行っています。 今後も提案型企業として、時代のニーズやお客様のご要望にこたえて参ります。 【製作実績例】 機械スピード :常用40~120m/min 機械構成   :炉体、加熱装置、循環ファン、吹出ノズル、ファンヒータ収納チャンバ、炉体前保温開閉装置

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